据韩媒报道,当地时间9日,SK海力士清州工厂泄露了一种液体化学品,事故发生之后员工进行了撤离,无人员伤亡。
SK海力士在清州的工厂主要是NAND Flash产线,目前有M11、M12和M15三座Fab厂。
据悉,泄露的物质为用于半导体晶圆的涂覆材料,简称TDMAT。资料显示,四(二甲胺基)钛 (TDMAT) 是一种液相化学源,适合于氮化钛膜的化学气相沉积。TiN 膜是 IC 应用的有效扩散阻挡层。在半导体制程应用中,氮化钛膜是有效的扩散阻挡层。
业内人士表示,这是一种危害很小的化学物质,并且,事故发生过程中,产线生产也没有中断。
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